0纳米芯片的自研自产，王逸的分量变得更重。
那份报告的含金量也会更高，相关项目的研发和投入，也会更恐怖！
说白了，一切都实力说话。
前世，为什么那么支持华为？
就是因为华为有底蕴，有能力，有技术，能做到其他企业做不到的突破。
同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。
苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。
中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89，后续只会更高。
华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。
如此成绩，全球都会震惊。
高层自然会高度关注，大力支持。
“王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。
这年头的光刻机还是duv光刻机，不像euv光刻机那么难如登天，自然好突破。
同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。
说白了，当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。
前世，落后得太多。
那时候，欧美euv都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追duv光刻机，自然难。
可这一次，大家都还是duv，那就简单了。
至于阿斯麦的euv，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是duv光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的duv。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv 1