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李明杰接触的第二位顶尖人才是陈宜强，52岁，曾任荷兰asl公司高级工程师，参与过32纳米光刻机的核心技术开发，手握80余项专利。他是光刻设备领域的顶尖专家，被誉为“纳米刻蚀之神”。
作为华人在asl的重要技术负责人，陈宜强早已成为全球芯片设备领域的权威。但他对回国发展一直心存顾虑。
他担心国内对高端设备研发的重视不足，更担心自己的研究方向可能无法得到充分支持。
李明杰亲自登门拜访，带着详细的芯片半导体规划和资金支持方案。
“陈博士，您为光刻设备领域贡献了无数成果，但这些成果更多的是为西方国家服务。难道您不希望，这些技术有一天能为您的祖国所用吗？”李明杰直接问道。
陈宜强沉默了片刻，轻叹道：“我一直想回去，但光刻机的研发不是简单的事，国内真的能支持我吗？”
“当然能。我们为您准备了一支50人的研发团队，设备和经费都由您全权掌控。更重要的是，我们不仅要研发光刻机，还要让它落地生产，让夏国芯片产业真正摆脱对西方的依赖。”李明杰语气坚定。
最终，陈宜强被李明杰的诚意和规划打动，决定回国加盟。
第三位目标：杨思涵——材料学专家
杨思涵，38岁，毕业于麻省理工学院，曾在英伟达担任材料研发部门主管，专注于高性能芯片材料的开发，拥有30余项核心专利。她是材料领域的后起之秀，被誉为“晶圆之星”。
杨思涵作为年轻一代的科研人才，对国内的科研氛围抱有一定的怀疑。她认为，国内的学术环境对年轻科研人员的包容度不够，很难让她实现自己的科研抱负。
这一次，李明杰不仅亲自出面，还安排了尹志尧一同劝说。
“杨博士，我们在中微公司设立了专门的材料研发实验室，您可以主导所有项目。”尹志尧说道。
“我知道国内在芯片材料领域的积累较弱，但这正是我们的机会。如果从头开始，您可以在这片领域里成为开创者。”李明杰补充道。
“我需要一支国际化的团队，还需要确保我的科研成果不会被束之高阁。”杨思涵提出了条件。