刻机的 “骨架”，光刻机工作时，硅片和掩模版需要进行高精度的定位和运动，精度要求达到纳米级别，这就要求机械系统具备极高的稳定性和运动精度。
以硅片台为例，它不仅要能在平面内进行高精度的二维移动，还需在垂直方向上实现精确升降，并且在高速运动过程中，保持稳定的姿态和位置精度。
为了满足这一要求，硅片台通常采用气浮轴承技术，减少机械摩擦，同时配备高精度的传感器和控制系统，实时监测和调整硅片台的位置和姿态。
掩模版台同样需要具备高精度的定位和运动能力，并且要与硅片台实现精确的同步运动，确保掩模版上的图案能够准确投影到硅片上。
此外，光刻机的机械结构还需具备良好的抗震性能，抵御外界环境的干扰，保证在长时间的工作过程中始终保持稳定的性能。
控制技术作为光刻机的 “大脑”，同样不可或缺。光刻机的运行涉及多个子系统的协同工作，需要一个高效、精确的控制系统来协调各部分的动作。
控制系统不仅要实时监测和控制光学系统、机械系统的运行状态，还要根据不同的工艺要求，调整光刻机的工作参数，比如在曝光过程中，设备需要根据芯片的设计要求，精确控制曝光时间、曝光剂量和光源的波长等参数。
同时，控制系统还需具备强大的故障诊断和处理能力，在设备出现故障时，迅速定位问题并采取相应措施，确保设备的正常运行。
随着芯片制造技术的不断发展，对光刻机的智能化程度要求也越来越高，控制系统需要引入自适应控制、人工智能等先进技术，以提高设备的生产效率和产品质量。
正因光刻机的研发难度如此之大，前世 2002 年，华国在这方面采取了 “集中力量办大事” 的模式。
由华国科技部和魔都市政府牵头，整合了包括魔都光学仪器厂在内的光学仪器企业，以及北国春城光机所、魔都光机所等中科院下属相关院所，还有水木大学、浙省大学等高校的力量，成立了魔都微电子，再由魔都微电子集中各方资源全力攻关光刻机的核心技术。
成立后，魔都微电子也确实在光刻机领域取得了一系列成就。
2010 年