式投影光刻机获得成功,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平。1981年,神州科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。1982年,科学院109厂研制出了kha-75-1光刻机,这些光刻机在当时的水平均不低,最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年差距。1985年,我们所研制出了分步光刻机样机,这也是咱们国家第一台分步投影式光刻机,当时与国外的差距不超过7年。”
韩所长的声音变得越来越低沉,“只可惜进入九十年代后,我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步,这个技术非常关键……而且在八十年代,我国和花旗国的关系得到改善,很多过去对我们限制的高科技产品,现在都可以卖给我们了,国外的光刻机产品,性价比远高于自我研发,我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。”韩所长说起这些,唏嘘不已。
“韩所长,那您认为咱们现在重启光刻机项目还来得及吗?最大困难在哪里?”林致远听老所长如数家珍说着这些,就知道自己这趟没白来。