式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。1981年，神州科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。1982年，科学院109厂研制出了kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年差距。1985年，我们所研制出了分步光刻机样机，这也是咱们国家第一台分步投影式光刻机，当时与国外的差距不超过7年。”
韩所长的声音变得越来越低沉，“只可惜进入九十年代后，我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步，这个技术非常关键……而且在八十年代，我国和花旗国的关系得到改善，很多过去对我们限制的高科技产品，现在都可以卖给我们了，国外的光刻机产品，性价比远高于自我研发，我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。”韩所长说起这些，唏嘘不已。
“韩所长，那您认为咱们现在重启光刻机项目还来得及吗？最大困难在哪里？”林致远听老所长如数家珍说着这些，就知道自己这趟没白来。